ガス圧の監視、汚染の検出、そしてリーク箇所の特定によって、太陽電池とLCDプロセスの歩留まりを最適化
プロセスガスと基準真空状況を監視することが、RGAとTranspector ® XPR3L ガス分析システムを使うことで低価格で効果的になります。XPR3L を使用するPVDプロセス監視は、プロセスガス圧、ガス比率、汚染レベル、不純物とリークのリアルタイムのデータを提供します。この情報はプロセスの歩溜まりと製品品質を最大化するために活用することができます。XPR3Lを使用する背景監視は、予防メンテナンスプログラムをより効率的にし、漏れと汚染をすばやく効果的に検出して診断します。
特長一覧
- UHVで10mTorr（20mTorrのオプション）までの操作を行い、プロセス監視と基準真空保証という、経済的で二重目的な機能を提供します。
- お買い得で経済効果の高いプロセスモニターで拡張性のある生産設計を可能にします。
- ガス圧、ガス比率、可能性のある汚染や不純物を継続的に自動監視することで、プロセスの歩溜まりを向上させ、破損を減らし、製品品質を向上します。
- 標準真空状況を検証、リーク箇所の探知、および高感度と低い検証可能な最小分圧値で汚染物の特定を行うことで、PMリカバリーを速め、生産力を上げます。
- 1から100amuの質量範囲で動作し、広範囲の材質、汚染物、または副産物を検知する能力を持つことで、投資の保護およびリスクを軽減します。
- 信頼性が高い高度な診断とプロセスコントロールを提供するため、FabGuard監視および分析システムとの互換性があります。
用途
- 太陽/光電池製造
- LCD製造
- PVDプロセス監視
- プロセスガス圧力と比率を監視
- 汚染の発見および特定
- リークを検出および探知（空気、ヘリウム、水、その他の蒸気）
- PMリカバリー/トラブルシュートと標準真空検証
ASSOCIATED TECHNICAL INFORMATION
Brochures and Datasheets:
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Brochure - Transpector XPR3L Gas Analysis System
English
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